Please use this identifier to cite or link to this item: https://dspace.ctu.edu.vn/jspui/handle/123456789/10688
Title: Tối ưu hóa thông số công nghệ hàn điện tiếp xúc cho độ bề bám dính lớp đắp chi tiết trục
Authors: Nguyễn, Minh Tân
Lê, Văn Thoài
Hoàng, Văn Châu
Đào, Quang Kế
Keywords: Hàn điện tiếp xúc
Độ bền bám dính
Trục phục hồi
Phương pháp Taguchi
Issue Date: 2018
Series/Report no.: Tạp chí Cơ khí Việt Nam;Số 10 .- Tr.31-39
Abstract: Độ bền bám dính lớp hàn đắp có quyết định rất lớn đến khả năng làm việc của chi tiết trục được phục hồi. Bài báo trình bày phương pháp thiết kế thực nghiệm Taguchi kết hợp phân tích phương sai (ANOVA) để tối ưu hóa thông số công nghệ cho độ bền bám dính khi phục hồi chi tiết trục thép C45, có đường kính 0100 bằng phương pháp hàn điện tiếp xúc với dây thép phụ C70. Kết quả nghiên cứu đã xác định được bộ thông số công nghệ (cường độ dòng điện hàn: lực ép hàn: F, vận tốc hàn: V.) để nhận được độ bền bám dính cao nhất. Độ bền bám dính cao nhất đạt được khoáng 90% so với độ bền của kim loại nền, trong khi đó lớp đắp vẫn thỏa mãn yêu cầu về độ cứng của trục thép C45 tôi, cải thiện (khoảng 50 đên 55 HRC). Từ kết quả nghiên cứu cho thấy phương pháp hàn phục hồi này có thể ứng dụng để hàn đắp phục hồi các chi tiết dạng trục với các kích thước và vật liệu khác nhau.
URI: http://dspace.ctu.edu.vn/jspui/handle/123456789/10688
ISSN: 0866-7056
Appears in Collections:Cơ khí Việt Nam

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
_file_
  Restricted Access
4.83 MBAdobe PDF
Your IP: 3.21.244.34


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.