Tối ưu hóa thông số công nghệ hàn điện tiếp xúc cho độ bề bám dính lớp đắp chi tiết trục

Abstract

Độ bền bám dính lớp hàn đắp có quyết định rất lớn đến khả năng làm việc của chi tiết trục được phục hồi. Bài báo trình bày phương pháp thiết kế thực nghiệm Taguchi kết hợp phân tích phương sai (ANOVA) để tối ưu hóa thông số công nghệ cho độ bền bám dính khi phục hồi chi tiết trục thép C45, có đường kính 0100 bằng phương pháp hàn điện tiếp xúc với dây thép phụ C70. Kết quả nghiên cứu đã xác định được bộ thông số công nghệ (cường độ dòng điện hàn: lực ép hàn: F, vận tốc hàn: V.) để nhận được độ bền bám dính cao nhất. Độ bền bám dính cao nhất đạt được khoáng 90% so với độ bền của kim loại nền, trong khi đó lớp đắp vẫn thỏa mãn yêu cầu về độ cứng của trục thép C45 tôi, cải thiện (khoảng 50 đên 55 HRC). Từ kết quả nghiên cứu cho thấy phương pháp hàn phục hồi này có thể ứng dụng để hàn đắp phục hồi các chi tiết dạng trục với các kích thước và vật liệu khác nhau.