Vui lòng dùng định danh này để trích dẫn hoặc liên kết đến tài liệu này: https://dspace.ctu.edu.vn/jspui/handle/123456789/61864
Toàn bộ biểu ghi siêu dữ liệu
Trường DCGiá trị Ngôn ngữ
dc.contributor.authorLe, Hong Phuc-
dc.contributor.authorNguyen, Thanh Tung-
dc.date.accessioned2021-08-18T03:48:50Z-
dc.date.available2021-08-18T03:48:50Z-
dc.date.issued2021-
dc.identifier.issn2525-2518-
dc.identifier.urihttps://dspace.ctu.edu.vn/jspui/handle/123456789/61864-
dc.description.abstractTHz metamaterial absorbers are often studied by computational techniques, where the influence of actual material parameters and fabricating limitation has not been completely understood. Here we present an experimental investigation on a far-infrared metamaterial absorber composed of a gold disk-shaped resonator, a silicon oxide spacer, and a gold film. The samples are fabricated using the UV laser lithography technique in combination with the clectron-beam evaporation. The absorption fcature of fabricated samples is examined by Fourier-transformmed infrared spectroscopy and supported by finite integration simulations. By tuning the periodicity between meta unit-cell, it is demonstrated that the total absorptivity can be tuned up to 96 % at 58 THz. The finding results confirm earlier prediction on the unique absorption behavior of metamaterials in the THz regime.vi_VN
dc.language.isoenvi_VN
dc.relation.ispartofseriesVietnam Journal of Science and Technology;Vol.59, No.01 .- P.40-46-
dc.subjectPerfect absorbersvi_VN
dc.subjectMetamaterialsvi_VN
dc.subjectInfrared spectroscopyvi_VN
dc.titleLithographic fabrication and spectroscopic characterization of a THz metamaterial adsorbervi_VN
dc.typeArticlevi_VN
Bộ sưu tập: Vietnam journal of science and technology

Các tập tin trong tài liệu này:
Tập tin Mô tả Kích thước Định dạng  
_file_
  Giới hạn truy cập
1.44 MBAdobe PDF
Your IP: 216.73.216.143


Khi sử dụng các tài liệu trong Thư viện số phải tuân thủ Luật bản quyền.