Please use this identifier to cite or link to this item:
https://dspace.ctu.edu.vn/jspui/handle/123456789/68322
Title: | Nghiên cứu mô phỏng đặc tính của nguồn plasma áp suất thấp |
Authors: | Trần, Thanh Hải Vũ, Hoàng Huy |
Keywords: | Sư phạm vật lý |
Issue Date: | 2021 |
Publisher: | Trường Đại học Cần Thơ |
Abstract: | Luận văn trình bày cơ sở của plasma về định nghĩa, thông số plasma phụ thuộc, điều kiện tồn tại plasma, sự khuếch tán điện tích trong plasma, phân loại plasma; nguồn plasma; ứng dụng của plasma; mô phỏng trong phần mềm CST, vẽ đồ thị bằng Origin; Đưa ra kết quả mô phỏng của nguồn ICP áp suất thấp, hình dạng phân bố điện trường trong plasma, đồ thị về phân bố cường độ điện trường trong plasma; Vẽ đồ thị sự phân bố cường độ điện trường trong plasma thay đổi theo áp suất và theo số hạt. |
Description: | 70 tr. |
URI: | https://dspace.ctu.edu.vn/jspui/handle/123456789/68322 |
Appears in Collections: | Khoa Sư phạm |
Files in This Item:
File | Description | Size | Format | |
---|---|---|---|---|
_file_ Restricted Access | 2.82 MB | Adobe PDF | ||
Your IP: 3.141.45.90 |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.