Please use this identifier to cite or link to this item: https://dspace.ctu.edu.vn/jspui/handle/123456789/68322
Title: Nghiên cứu mô phỏng đặc tính của nguồn plasma áp suất thấp
Authors: Trần, Thanh Hải
Vũ, Hoàng Huy
Keywords: Sư phạm vật lý
Issue Date: 2021
Publisher: Trường Đại học Cần Thơ
Abstract: Luận văn trình bày cơ sở của plasma về định nghĩa, thông số plasma phụ thuộc, điều kiện tồn tại plasma, sự khuếch tán điện tích trong plasma, phân loại plasma; nguồn plasma; ứng dụng của plasma; mô phỏng trong phần mềm CST, vẽ đồ thị bằng Origin; Đưa ra kết quả mô phỏng của nguồn ICP áp suất thấp, hình dạng phân bố điện trường trong plasma, đồ thị về phân bố cường độ điện trường trong plasma; Vẽ đồ thị sự phân bố cường độ điện trường trong plasma thay đổi theo áp suất và theo số hạt.
Description: 70 tr.
URI: https://dspace.ctu.edu.vn/jspui/handle/123456789/68322
Appears in Collections:Khoa Sư phạm

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
_file_
  Restricted Access
2.82 MBAdobe PDF
Your IP: 18.223.172.243


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.