Vui lòng dùng định danh này để trích dẫn hoặc liên kết đến tài liệu này:
https://dspace.ctu.edu.vn/jspui/handle/123456789/68322
Nhan đề: | Nghiên cứu mô phỏng đặc tính của nguồn plasma áp suất thấp |
Tác giả: | Trần, Thanh Hải Vũ, Hoàng Huy |
Từ khoá: | Sư phạm vật lý |
Năm xuất bản: | 2021 |
Nhà xuất bản: | Trường Đại học Cần Thơ |
Tóm tắt: | Luận văn trình bày cơ sở của plasma về định nghĩa, thông số plasma phụ thuộc, điều kiện tồn tại plasma, sự khuếch tán điện tích trong plasma, phân loại plasma; nguồn plasma; ứng dụng của plasma; mô phỏng trong phần mềm CST, vẽ đồ thị bằng Origin; Đưa ra kết quả mô phỏng của nguồn ICP áp suất thấp, hình dạng phân bố điện trường trong plasma, đồ thị về phân bố cường độ điện trường trong plasma; Vẽ đồ thị sự phân bố cường độ điện trường trong plasma thay đổi theo áp suất và theo số hạt. |
Mô tả: | 70 tr. |
Định danh: | https://dspace.ctu.edu.vn/jspui/handle/123456789/68322 |
Bộ sưu tập: | Khoa Sư phạm |
Các tập tin trong tài liệu này:
Tập tin | Mô tả | Kích thước | Định dạng | |
---|---|---|---|---|
_file_ Giới hạn truy cập | 2.82 MB | Adobe PDF | ||
Your IP: 3.149.25.87 |
Khi sử dụng các tài liệu trong Thư viện số phải tuân thủ Luật bản quyền.