Please use this identifier to cite or link to this item: https://dspace.ctu.edu.vn/jspui/handle/123456789/68322
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.advisorTrần, Thanh Hải-
dc.contributor.authorVũ, Hoàng Huy-
dc.date.accessioned2021-11-16T01:22:09Z-
dc.date.available2021-11-16T01:22:09Z-
dc.date.issued2021-
dc.identifier.otherB1700059-
dc.identifier.urihttps://dspace.ctu.edu.vn/jspui/handle/123456789/68322-
dc.description70 tr.vi_VN
dc.description.abstractLuận văn trình bày cơ sở của plasma về định nghĩa, thông số plasma phụ thuộc, điều kiện tồn tại plasma, sự khuếch tán điện tích trong plasma, phân loại plasma; nguồn plasma; ứng dụng của plasma; mô phỏng trong phần mềm CST, vẽ đồ thị bằng Origin; Đưa ra kết quả mô phỏng của nguồn ICP áp suất thấp, hình dạng phân bố điện trường trong plasma, đồ thị về phân bố cường độ điện trường trong plasma; Vẽ đồ thị sự phân bố cường độ điện trường trong plasma thay đổi theo áp suất và theo số hạt.vi_VN
dc.language.isovivi_VN
dc.publisherTrường Đại học Cần Thơvi_VN
dc.subjectSư phạm vật lývi_VN
dc.titleNghiên cứu mô phỏng đặc tính của nguồn plasma áp suất thấpvi_VN
dc.typeThesisvi_VN
Appears in Collections:Khoa Sư phạm

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
_file_
  Restricted Access
2.82 MBAdobe PDF
Your IP: 18.219.119.163


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.