Nghiên cứu mô phỏng đặc tính của nguồn plasma áp suất thấp

Vui lòng dùng định danh này để trích dẫn hoặc liên kết đến tài liệu này: https://dspace.ctu.edu.vn/jspui/handle/123456789/68322

Toàn bộ biểu ghi siêu dữ liệu

Trường DC	Giá trị	Ngôn ngữ
dc.contributor.advisor	Trần, Thanh Hải	-
dc.contributor.author	Vũ, Hoàng Huy	-
dc.date.accessioned	2021-11-16T01:22:09Z	-
dc.date.available	2021-11-16T01:22:09Z	-
dc.date.issued	2021	-
dc.identifier.other	B1700059	-
dc.identifier.uri	https://dspace.ctu.edu.vn/jspui/handle/123456789/68322	-
dc.description	70 tr.	vi_VN
dc.description.abstract	Luận văn trình bày cơ sở của plasma về định nghĩa, thông số plasma phụ thuộc, điều kiện tồn tại plasma, sự khuếch tán điện tích trong plasma, phân loại plasma; nguồn plasma; ứng dụng của plasma; mô phỏng trong phần mềm CST, vẽ đồ thị bằng Origin; Đưa ra kết quả mô phỏng của nguồn ICP áp suất thấp, hình dạng phân bố điện trường trong plasma, đồ thị về phân bố cường độ điện trường trong plasma; Vẽ đồ thị sự phân bố cường độ điện trường trong plasma thay đổi theo áp suất và theo số hạt.	vi_VN
dc.language.iso	vi	vi_VN
dc.publisher	Trường Đại học Cần Thơ	vi_VN
dc.subject	Sư phạm vật lý	vi_VN
dc.title	Nghiên cứu mô phỏng đặc tính của nguồn plasma áp suất thấp	vi_VN
dc.type	Thesis	vi_VN
Bộ sưu tập:	Khoa Sư phạm

Các tập tin trong tài liệu này:

Tập tin	Mô tả	Kích thước	Định dạng
_file_ Giới hạn truy cập		2.82 MB	Adobe PDF
Your IP: 216.73.216.133

Khi sử dụng các tài liệu trong Thư viện số phải tuân thủ Luật bản quyền.

Thư viện số DSPACE